HD-Si12粉塵游離二氧化硅分析儀

粉塵游離二氧化硅分析儀依據(jù)國(guó)家職業(yè)衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)《GBZ/T 192.4-2007工作場(chǎng)所空氣中粉塵測(cè)定 第4部分：游離二氧化硅含量》中規(guī)定的前處理步驟，自動(dòng)完成添加焦磷酸、自動(dòng)加熱攪拌、自動(dòng)升溫、15分鐘消解過程準(zhǔn)確控溫在245℃-250℃、自動(dòng)降溫、自動(dòng)注水、自動(dòng)復(fù)溫、自動(dòng)過濾、自動(dòng)清洗等功能，整個(gè)過程無(wú)需人員值守，實(shí)現(xiàn)了游離二氧化硅分離前處理的自動(dòng)化。

訪問次數(shù)：489    產(chǎn)品價(jià)格：面議    廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家    更新日期：2025-02-08

HD-Si12全自動(dòng)游離二氧化硅前處理工作站

全自動(dòng)游離二氧化硅前處理工作站依據(jù)國(guó)家職業(yè)衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)《GBZ/T 192.4-2007工作場(chǎng)所空氣中粉塵測(cè)定 第4部分：游離二氧化硅含量》中規(guī)定的前處理步驟，自動(dòng)完成添加焦磷酸、自動(dòng)加熱攪拌、自動(dòng)升溫、15分鐘消解過程準(zhǔn)確控溫在245℃-250℃、自動(dòng)降溫、自動(dòng)注水、自動(dòng)復(fù)溫、自動(dòng)過濾、自動(dòng)清洗等功能，整個(gè)過程無(wú)需人員值守，實(shí)現(xiàn)了游離二氧化硅分離前處理的自動(dòng)化。

訪問次數(shù)：473    產(chǎn)品價(jià)格：面議    廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家    更新日期：2025-02-08

HD-Si12全自動(dòng)游離二氧化硅前處理儀

全自動(dòng)游離二氧化硅前處理儀依據(jù)國(guó)家職業(yè)衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)《GBZ/T 192.4-2007工作場(chǎng)所空氣中粉塵測(cè)定 第4部分：游離二氧化硅含量》中規(guī)定的前處理步驟，自動(dòng)完成添加焦磷酸、自動(dòng)加熱攪拌、自動(dòng)升溫、15分鐘消解過程準(zhǔn)確控溫在245℃-250℃、自動(dòng)降溫、自動(dòng)注水、自動(dòng)復(fù)溫、自動(dòng)過濾、自動(dòng)清洗等功能，整個(gè)過程無(wú)需人員值守，實(shí)現(xiàn)了游離二氧化硅分離前處理的自動(dòng)化。

訪問次數(shù)：521    產(chǎn)品價(jià)格：面議    廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家    更新日期：2025-02-08

HD-Si12游離二氧化硅前處理儀

游離二氧化硅前處理儀依據(jù)國(guó)家職業(yè)衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)《GBZ/T 192.4-2007工作場(chǎng)所空氣中粉塵測(cè)定 第4部分：游離二氧化硅含量》中規(guī)定的前處理步驟，自動(dòng)完成添加焦磷酸、自動(dòng)加熱攪拌、自動(dòng)升溫、15分鐘消解過程準(zhǔn)確控溫在245℃-250℃、自動(dòng)降溫、自動(dòng)注水、自動(dòng)復(fù)溫、自動(dòng)過濾、自動(dòng)清洗等功能，整個(gè)過程無(wú)需人員值守，實(shí)現(xiàn)了游離二氧化硅分離前處理的自動(dòng)化。

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